سال انتشار: ۱۳۸۵

محل انتشار: هفتمین سمینار ملی مهندسی سطح و عملیات حرارتی

تعداد صفحات: ۶

نویسنده(ها):

معصومه شربتداران – مرکز تحقیقات کشاورزی و پزشکی هسته ای، سازمان انرژی اتمی ایران
حسن نورکجوری – مرکز تحقیقات کشاورزی و پزشکی هسته ای، سازمان انرژی اتمی ایران
عبدالجواد نوین روز – مرکز تحقیقات کشاورزی و پزشکی هسته ای، سازمان انرژی اتمی ایران
سید محمود محاطی – مرکز تحقیقات کشاورزی و پزشکی هسته ای، سازمان انرژی اتمی ایران

چکیده:

اکسید تنگستن یکی از مهم ترین مواد برای تهیه لایه های نازک الکتروکروم (EC) به خصوص در ساخت صفحات نمایش الکتروکروم (ECD) میباشد.در این کار تحقیقاتی، لایه نازک اکسید تنگستن روی شیشه هادی اکسید ایندیم – قلع (ITO) انباشت شد . بدین منظور مشتق اسیدی پراکسو تانگستیک اسید (APTA) به روش سل -ژل سنتز شده و به عنوان پیش ماده برای لایه نشانی با تکنیک پوشش دهی غوطه وری (Dip Coating) استفاده شد. از آنجا که بسیاری از خواص لایه های نازک مانند خاصیت الکتروکرومیکی به ساختار میک روسکوپی فیلم ها وابسته است، لذا جهت بهینه سازی لایه ها، مقادیر جزئی اسید اگزالیک دوآبه (OAD) که یک ترکیب آلی می باشد،در محدوده (۱۰-۰) درصد به پیش ماده افزوده شد . در این مطالعه خواص ساختاری و پارامتر های مربوط به مرفولوژی سطح لایه نازک، و پاسخ های الکتروکرو میکی آن بررسی شده است . رفتار حرارتی APTA وشفافیت لایه ها پس از عملیات حرارتی در دماهای مختلف و غلظتهای متفاوت از OAD به ترتیب به وسیله دستگاه های STA و UV-Visبررسی شد. محو میکروترک ها در لایه های نازک، همراه با خواص الکتروکرومیکی خوب از یافته های مهم در این تحقیق می باشند.