سال انتشار: ۱۳۸۶

محل انتشار: دومین همایش دانشجویی فناوری نانو

تعداد صفحات: ۷

نویسنده(ها):

محمد الماسی کاشی – پژوهشکده علوم و فناوری نانو، دانشگاه کاشان، ایران
عبدالعلی رمضانی – پژوهشکده علوم و فناوری نانو، دانشگاه کاشان، ایران
مونس رحماندوست – پژوهشکده علوم و فناوری نانو، دانشگاه کاشان، ایران

چکیده:

با روش آندایز توسط مخلوط اسید سولفوریک – اکسالیک، در ولتاژ بین ۲۵ تا ۴۰ ولت، می توان آرایه ای منظم از نانوحفره ها داشت . در هر ولتاژو pH ثابت از دو نوع الکترولیت با غلظت اسید سولفوریک متفاوت استفاده شده و تاثیر آن بر آرایش و نظم حفره ها با تبدیل فوریه از تصاویر AFM و SEM ، بررسی شده است . نتایج نشان می دهد که در ترکیب دارای غلظت بالاتر اسید سولفوریک، نظم بلند برد و در غلظت کمتر آرایش زیباتر حفره ها چشمگیر است . فاصله بین حفره ای در ترکیب مخلوط اسید سولفوریک – اکسالیک در غلظت کمتر ، بیشتر و تقریبا برابر nmV -1 2.6 و nmV -1 2.5 برای غلظت بالاتر است . چگالی سطحی حفره ها در ۴۰ ولت با الکترولیت اکسالیک و در ۲۵ ولت با سولفوریک حدود % ۱۰ است در حالیکه برای ترکیب این دو اسید، این مقدار تا حدود % ۵۰ در ولتاژ ۳۷٫۵ افزایش می یابد .