سال انتشار: ۱۳۸۵

محل انتشار: هشتمین کنفرانس ماده چگال

تعداد صفحات: ۴

نویسنده(ها):

علی محمدی قیداری – پژوهشکده نیمه هادیها، پژوهشگاه مواد و انرژی، کرج
محمود کاظمی زاد – پژوهشکده نیمه هادیها، پژوهشگاه مواد و انرژی، کرج
حبیبه حدادباغی – گروه شیمی، دانشگاه آزاد اسلامی واحد کرج، کرج
سیده محبوبه پورهاشمی – دبیر فیزیک، آموزش پرورش هشتگرد، هشتگرد

چکیده:

لایه های نازک اکسید ایندیم و قلع (ITO) با ضخامت ۱۵۰ nm با استفاده از دستگاه باریکه الکترونی روی شیشه کوارتز لایه گذاری ش د . لایه گذاریها در دمای اتاق انجام شده و به منظور بهبود خواص، لایه ها در کوره خلا تحت عملیات حرارتی قرار گرفتند . تغییرات خواص ساختاری، الکتریکی و نوری لایه ها با تغییر دمای کوره مورد بررسی قرار گرفته و مشاهده شد که در دمای ۴۰۰ °C می توان به بیشترین درصد عبور و در عین حال کمترین مقاومت سطحی دست یافت . با استفاده از آنالیز XRD و SEM دیده شد که در این دما لایه ها دارای ساختار چند بلوری با بافت سطحی <111> شده و اندازه دانه های کریستالی در این جهت نیز ۳۵-۴۰ nm می باشد . سپس لا یه های فلزیAl( 320 nm ( و Cr( 30 nm به ترتیب روی لایه بهینهITO به روش باریکه الکترونی و در دمای ۱۰۰ °Cلایه گذاری شدند . تماس فلزی ایجاد شده دارای رفتار اهمی بوده و مقاومت آن بعد از گرمادهی در خلاء و دمای ۲۵۰ °C به کمترین مقدار ۴۰ µΩ-cmبه توان ۲رسید