سال انتشار: ۱۳۸۵

محل انتشار: یازدهمین کنگره ملی مهندسی شیمی ایران

تعداد صفحات: ۱۰

نویسنده(ها):

نظام الدین دانشور – استاد تمام وقت گروه شیمی کاربردی ومهندسی شیمی دانشگاه تبریز
محمدعلی بهنژادی – استاد یار تمام وقت گروه شیمی کاربردی دانشگاهو آزاد اسلامی واحد تبریز
یاشار ذریه اصغر – کارشناس ارشد رشته شیمی کاربردی
علی رضا امانی قدیم – کارشناس ارشد رشته شیمی کاربردی

چکیده:

در این کار پژوهشی تخریب فتواکسیداسیونی ٤- نیتروفنل (۴-NP) در حضور H2O2با استفاده از راکتور ناپیوسته مجهز به لامپW)UV-C 15 ) در طول موج nm 254 بررسی شد. تاثیر پارامترهای عملیاتی از قبیل pHاولیه محلول ، غلظت ۲H2O به کار رفته و شدت نور UV مورد مطالعه قرار گرفت . نتایج بررسی ها نشان دادند که افزایش غلظتآلاینده ، سرعت حذف را کاهش می دهد و ثابت سرعت ظاهری واکنش از سینتیک واکنشهای درجه اول پیروی می کند.افزایش آلاینده های شیمیایی از قبیلNa2CO3 , NaHCO3 NaClدر تخریب نوری موجب کاهش سرعت حذفشدند. همچنین افزایش جاروب کننده های الکترون مانند اتانول و ٢- پروپانول رادیکالهای هیدروکسیل را مصرف کرده و باعث کاهش میزان حذف شدند . نتایجHPLCنشان دادکه برخی از حد واسط ها ( ٤- نیترو کاتکول و هیدروکینون )در طول فر آیند تخریب تشکیل شده و با افزایش مدت زمان تابش از بین می روند. همچنین نتایج نشان دادند که معدنیسازیNP در شرایط مطلوب رخ داده و کاهش COD – تا ٦٠ % درصد، بعد از ١٥٠ دقیقه تابش اتفاق می افتد.