مقاله بررسي جدايش و انباشت سطحي مس در لايه هاي نانومتري (Ni/Cu/Si100) حين لايه نشاني و عمليات حرارتي که چکیده‌ی آن در زیر آورده شده است، در ۱۳۸۷ در علوم و مهندسي سطح از صفحه ۱ تا ۷ منتشر شده است.
نام: بررسي جدايش و انباشت سطحي مس در لايه هاي نانومتري (Ni/Cu/Si100) حين لايه نشاني و عمليات حرارتي
این مقاله دارای ۷ صفحه می‌باشد، که برای تهیه‌ی آن می‌توانید بر روی گزینه‌ی خرید مقاله کلیک کنید.
کلمات مرتبط / کلیدی:
مقاله انباشت سطحي
مقاله عمليات حرارتي
مقاله مس
مقاله نيكل
مقاله لايه هاي نانومتري

نویسنده(ها):
جناب آقای / سرکار خانم: رسولي رضا
جناب آقای / سرکار خانم: احديان محمدمهدي
جناب آقای / سرکار خانم: ايرجي زاد اعظم

چکیده و خلاصه‌ای از مقاله:
در اين مقاله انباشت سطحي زير لايه مس حين لايه نشاني نيكل و نيز در حين عمليات حرارتي در سيستم Ni/Cu/Si(100) مورد بررسي قرار گرفته است. به منظور بررسي سطح در مقياس نانومتري از روش طيف نگاري XPS استفاده گرديد. با استفاده از ميكروسكوپ نيروي اتمي (AFM) كيفيت لايه ها و زبري سطح بررسي شد و با اندازه گيري زاويه تماسي قطرات ميكروليتري آب، انرژي سطحي نمونه ها مقايسه گرديدند. نتايج نشان مي دهد انباشت سطحي مس حين لايه نشاني با افزايش ضخامت لايه نيكل در محدوده ۲-۴nm كاهش يافته و در ضخامت بيش از ۴nm، مس بر روي سطح مشاهده نمي گردد. تحليل نتايج به روش Tougaard و همچنين استفاده از شدت نسبي قله ها نشان مي دهد كه مس انباشته شده به صورت يكنواختي با ضخامت تك لايه اتمي بر روي سطح قرار گرفته است. آزمايش زاويه تماسي مشخص مي نمايد كه با كاهش ضخامت لايه نيكل، انرژي سطحي نمونه ها كاهش يافته و به انرژي سطحي مس نزديك مي شود. تحليل Tougaard مشخص مي كند كه با انجام عمليات حرارتي در محدوده دمايي ۱۵۰-۱۸۵oC، مس انباشته شده افزايش يافته و به صورت جزاير سه بعدي در مي آيد كه اين پديده با نتايج AFM همخواني دارد.