سال انتشار: ۱۳۸۴

محل انتشار: کنفرانس فیزیک ایران ۱۳۸۴

تعداد صفحات: ۳

نویسنده(ها):

نگین معنوی زاده – آزمایشگاه تحقیقاتی لایه های نازک، گروه مهندسی برق وکامپیوتر، دانشک
رشید صفاایسینی – آزمایشگاه ت
ابراهیم اصل سلیمانی – آزمایشگاه تحقیقاتی لایه های نازک، گروه مهندسی برق وکامپیوتر، دانشک
فاطمه دهقان نیری – آزمایشگاه تحقیقاتی لایه های نازک، گروه مهندسی برق وکامپیوتر، دانشک

چکیده:

در این مقاله ساختار اتصال Ni/Cu بر روی کریستال بس بلور سیلیکان به روش الکتروشیمیایی مورد بررسی قرار گرفته است . چنین ساختاری به دلیل کم هزینه بودن، مقاومت پایین، چسبندگی خوب و استفاده آسان، مورد توجه قرار گرفته است . در این ساختار نیکل به عنوان سدی برای جلوگیری از نفوذ مس به زیرلایه سیلیکان و همچنین برای به وجود آوردن اتصال اهمی مورد استفاده واقع می شود . از مس نیز به علت مقاومت الکتریکی پایین آن و همچنین مقاومت بالای آنها در برابر مهاجرت الکترونها استفاده میشود