سال انتشار: ۱۳۸۵

محل انتشار: هفتمین سمینار ملی مهندسی سطح و عملیات حرارتی

تعداد صفحات: ۸

نویسنده(ها):

محمود رضایی رکن آبادی – گروه فیزیک، دانشگاه فردوسی مشهد
حنانه کیوان – گروه فیزیک، دانشگاه فردوسی مشهد
مریم داوری – گروه فیزیک، دانشگاه فردوسی مشهد

چکیده:

لایه های نازک نیمه هادی شفافsno2به روش های مختلف از جمله اسپری پایرولیزز تبخیر حرارتی، CVD ، اسپاترینگ تهیه می شود. در این مقاله مشخصه های فیلم نازک تهیه شده sno2 به روش sol-gel به وسیله تفرق پرتو x ، مورد ارزیابی قرار گرفت . همچنین، میزان اثر هال و مقدار جذب و عبور در ناحیه مرئی مورد بررسی قرار داده شد . اندازه گیری اثر هال نشان داد که نوع هدایت لایه بستگی زیادی به فرآیند گرمادهی (۰/۲۵>In/Sn) دارد. در مورد درصد وزنی In/Sn کوچک تر از ۰/۲۵ و عملیات گرمادهی بالای ۴۳۰ درجه سانتیگراد لایه نوع P است، در حالیکه در مورد فرآیند گرمادهی کوچک تر از ۴۳۰ درجه سانتیگراد فیلم نوع nاست . مشخص شد، نقطه اپتیمم دمایی برایsno2 نوع p ، حدود ۵۲۰ درجه سانتیگراد است و در این دما بیشترین تمرکز حفره را وجود دارد. اندازهگیریها نشان داد که فیلم با درصد وزنی ۰/۳۵ > In/Sn دارای هدایت نوع n است. در مورد درصد وزنی حدود ۰/۳ تشخیص نوع n و p قدری دشوار و مشکل است و در حقیقت به عنوان یک نقطه بحرانی برای گذار از نوع p به نوع n است . آزمایش های XRD نیز نشان داد که همه فیلم ها با تمرکز ۰/۴>In/Sn دارای ساختار هگزاگونال است. برای درصد وزنی ۰/۲۵ >In/Sn و عملیات گرمادهی بالای ۴۳۰درجه سانتیگراد لایه نوع p لازم است. در حالی که با همین درصد ناخالصی در فرآیند گرمادهی کوچکتر از ۴۳۰ درجه سانتیگراد لایه نوع n لازم است.