سال انتشار: ۱۳۸۷

محل انتشار: پانزدهمین کنفرانس اپتیک و فتونیک ایران

تعداد صفحات: ۴

نویسنده(ها):

علیرضا بی آرام – دانشکده فیزیک ، دانشگاه صنعتی شاهرود
حسین عشقی – دانشکده فیزیک ، دانشگاه صنعتی شاهرود

چکیده:

ما در این مقاله به بررسی تاثیر دمای زیر لایه بر ویژگی های ساختاری نوری و الکتریکی لایه های اکسید قلع با ضخامت های نانو متری (nm200=) پرداخته ایم که با روش اسپری پایرولیزیز رشد یافته اند طرح پراش پرتو x لایه ها نشان گر ساختار بسبلوری تترا گونال است که با افزایش دمای زیر لایه از ۳۵۰ تا ۴۵۰c تبلور آنها از (۲۰۰) به (۱۱۰) رو به فزونی می گذارد اندازه گیری های نوری و الکتریکی حاکی از آن است که لایه رشد یافته در دمای ۴۲۵c از بالاترین ضریب عبور (۹۱ درصد در nm550 ) و پایین ترین مقاومت ورقه ای (cm/Ù ۲۹۵) برخوردار است . تغییرات گاف نواری بر حسب چگالی حاملها با استفاده از فرمول بروشتین – ماس تحقیق شده است .