سال انتشار: ۱۳۸۶

محل انتشار: کنفرانس فیزیک ایران ۱۳۸۶

تعداد صفحات: ۴

نویسنده(ها):

مسعود ایرج – مجتمع تحقیقاتی لایه های نازک ،دانشکده برق و کامپیوتر، دانشگاه تهران
علی محمدی قیداری – پژوهشگاه مواد و انرژی ، کرج
ابراهیم اصل سلیمانی – مجتمع تحقیقاتی لایه های نازک ،دانشکده برق و کامپیوتر، دانشگاه تهران
منصور منصور حسینی – گروه فیزیک ، دانشگاه تربیت معلم تهران ، خیابان مفتح ، تهران

چکیده:

در این مقاله اثر فشار گاز پراکنشی آرگون ۲۲-۴۲) میلی تور ) بر روی خواص ساختاری ، الکتریکی و نوری لایه های نازک اکسید ایندیم و قلع (ITO) که با روش پراکنش RF و در دمای اتاق بر روی زیرلایه های انعطاف پذیر پلی ایمید کپتون نوع HN نشانده شده اند ، بررسی شده است . آنالیز XRD نشان می دهد در فشارهای پایین جهت ترجیحی لایه <111> می باشد و با افزایش فشار جهت ترجیحی به <١٠٠> متمایل می شود که این رفتار با توجه به انرژی ذرات رسیده به زیرلایه و همچنین تحرک اتمهای روی سطح زیرلایه تحلیل شده است . تغییرات عبور و رسانایی لایه ها نیز بر اساس محتوای اکسیژن لایه ها و میزان تبلور آنها بررسی و تحلیل شده است . فشار بهینه که در آن میان رسانایی بالا و عبور بالا سازگاری خوبی برقرار است ۳۲ میلی تور به دست آمده است .