سال انتشار: ۱۳۹۰

محل انتشار: اولین همایش ملی مس

تعداد صفحات: ۹

نویسنده(ها):

اطهره دادگری نژاد – عضو هیات علمی بخش مهندسی متالورژی دانشگاه شهید باهنر کرمان
فاطمه بقایی راوری – عضو هیات علمی بخش مهندسی متالورژی دانشگاه شهید باهنر کرمان
مهدیه شمسی – دانشجوی دوره کارشناسی بخش مهندسی، متالورژی دانشگاه شهید باهنر کرما

چکیده:

رفتار الکتروشیمیایی مس در محیط اسیدکلریدریک در حضور یک ممانعت کننده سنتزی آلی به روشهای پلاریزاسیون تافلAC امپدانس و کاهش وزن مورد مطالعه وبررسی قرار گرفت. نتایج نشان داد که این مما نعت کننده از نوع کاتدی بوده و افزایش غلظت ممانعت کننده و زمان غوطه وری باعث افزایش مقاومت پولاریزاسیون و کاهش ظرفیت خازنی ودر نتیجه کاهش دانسیته جریان خوردگی میشود. ضمنا جذب ممانعت کننده بر روی سطح از ایزوترم جذب لانگمیر پیروی می کند با محاسبه انرژی آزاد جذب نتیجه گرفته شدکه جذب ممانعت کننده بر روی سطح به صورت جذب فیزیکی شیمیایی می باشد