سال انتشار: ۱۳۸۴

محل انتشار: نهمین کنگره سالانه انجمن مهندسین متالورژی ایران

تعداد صفحات: ۱۰

نویسنده(ها):

عبدالحمید جعفری – استادیار بخش مهندسی متالورژی، دانشگاه شهید باهنر کرمان
امیر صرافی – استادیار بخش مهندسی متالورژی، دانشگاه شهید باهنر کرمان
علی صارمی – دانشجوی کارشناسی ارشد بخش مهندسی متالورژی، دانشگاه شهید باهنر کرمان
مسعود حسنخانی – دانشجوی کارشناسی ارشد بخش مهندسی متالورژی، دانشگاه شهید باهنر کرمان

چکیده:

پسیو شدن مس یکی از مه م ترین پدیـده هـا در فرآینـد پـالایش الکتریکـی مـس میباشـد . بـدلیل ماهیـت الکتروشیمیائی فرآیند پالایش، روشهای مختلف الکتروشیمیائی جهت مطالعـة رفتـار پسـیو شـدن آنـدهای مسی مورد استفاده قرار گرفته است . در تحقیق حاضر از تست گالوانواستاتیک ( کرونوپتانسیومتری ) بـرای بررسی رفتار پسـیو شـدن نمونـه هـای آنـد تجـارتی و همچنـین مـس خـالص کاتـدی در حضـور محلـول الکترولیت صنعتی کمک گرفته شد . بر طبق نتایج حاصل یک مدل دولایه ای شامل یـک لایـه بـا ماهیـت الکتروشیمیائی ( فیلم پسیو ) و یک لایه با جذب فیزیکی ( لایة لجـن ) بـرروی سـطح مشـاهده گردیـد . بـرای رسیدن به را بطه ای میان مورفولوژی لایه های سطحی و رفتار پسیو شدن، آنالیزهای SEM و EDS یکبار در حضور لایة لجن و بار دیگر پـس از حـذف آن مـورد اسـتفاده قـرار گرفـت . نتـایج حاصـل نشـان دهنـدة حساسیت بالای تست گالوانواستاتیک در نشان دادن زمان پسیو شـدن ) ) tp بـوده و دربرگیرنـدة چهارناحیـ۱-انحلال فعال ۲-مرحله قبل از پسیو شدن۳-شـروع فرآینـد پسـیو شـدن و۴-پسـیو شـدن کامـل بـرای نمونه های تجارتی و تنها ناحیه انحلال فعال برای مس خالص تحت شرایط آزمایش میباشد .