سال انتشار: ۱۳۸۷

محل انتشار: نهمین سمینار ملی مهندسی سطح و عملیات حرارتی

تعداد صفحات: ۱۱

نویسنده(ها):

روح الله موسوی – دانشجوی کارشناسی ارشد دانشگاه صنعتی اصفهان
کیوان رئیسی – استادیار – دانشگاه صنعتی اصفهان
احمد ساعتچی – استاد – دانشگاه صنعتی اصفهان

چکیده:

در این تحقیق از حمام حاوی سیترات سدیم سولفات نیکل و مولیبدات سدیم جهت رسوب پوشش Ni No استفاده گردید منحنی های پلاریزاسیون و امپدانس الکتروشیمیایی پوشش دهی به ترتیب توسط پتانسیو استات EG&G مد ۲۶۳A و رسپانسر EG&Gمدل ۱۰۲۵ ترسیم شدند .مورفولوژی و ترکیب شمیایی نیز بوسیله میکروسکوپ الکترونی روبشی و طیف سنج انرژی تعیین گردید بررسی ها نشان داد که با کاهش دما و افزایش Phمنحنی پلاریزاسیون به سمت چپ منتقل میگردد و لذا منجر به افزایش فراپتانسیل میشوند آزمونهای امپدانس الکترو شیمیایی نشان داد که در اثر افزایش دما از محیط ۲۴ درجه به ۴۰ درجه و افزایش پی اچ از مقدار ۷ به ۱۰٫۵ ثابت زمانی دوم در منحنی امپدانس که در دمای پایین ظاهر میشود و نشان دهنده وجود کنترل نفوذی فرایند رسوب دهی میباشد حذف گردیده و مقاومت انتقال بار نیز کاهش میابد تصاویر بدست آمده از SEMافزایش تراکم در مورفولوژی پوشش ها در اثر افرایش دما و PHرا نشان میدهد مقدار MOدر پوشش در اثر افزایش دما ثابت باقی مانده ولی با افزایش Phکاهش میابد .