سال انتشار: ۱۳۸۵

محل انتشار: هفتمین سمینار ملی مهندسی سطح و عملیات حرارتی

تعداد صفحات: ۴

نویسنده(ها):

داود کلهر – دانشکده فیزیک ، دانشگاه علوم پایه دامغان
علی اصغر زواریان – مرکز فناوری خلأ بالا، جهاد دانشگاهی صنعتی شریف،تهران

چکیده:

در این طرح بررسی تغییرات خواص لایه های نازک اکسیدی در حضور یون اکسیژن برای چندین ماده اکسیژندار در دو فاز مطالعاتی و تجربی انجام شده است. در فاز مطالعه معلوم شد که فرآیند لایه نشانی این لایه ها در حضور یون اکسیژن موجب تغییر خواص مکانیکی و اپتیکی می شو د. در فاز تجربی، برخی از مواد مطالعه شده به عنوان نمونه انتخاب شد و در دو بخش تحت آزمایش قرار گرفت، به این ترتیب که ابتدا مواد اکسید تیتانیوم و ایندیوم در شرایط عادی لایه نشانی شد و شرایط مانند فشار و دما در زمان لایه نشانی برای هر کدام ثبت گردید . سپس همین مواد در شرایط فوق اما در حضور یون اکسیژن که به وسیله دستگاه یون ساز تولید می شد با همان ضخامت های قبلی لایه نشانی شد . طیف لایه های تهیه شده با استفاده از XRDو طیف سنج نوری تهیه گردیدند . بررسی طیف های به دست آمده نشان گر بهبود خواص لایه ها در حضور یون اکسیژن علاوه بر بالا رفتن درصد عبور لایه هاست.