سال انتشار: ۱۳۸۶

محل انتشار: سومین کنفرانس ملی خلاء

تعداد صفحات: ۴

نویسنده(ها):

محمد میرشکاری سلیمانی – دانشکده فیزیک- دانشگاه صنعتی شریف
روح الله عظیمی راد – دانشکده فیزیک- دانشگاه صنعتی شریف
امید اخوان – دانشکده فیزیک- دانشگاه صنعتی شریف
علیرضا مشفق – پژوهشکده علوم و فناوری نانو- دانشگاه صنعتی شریف

چکیده:

در این تحقیق، خواص آبدوستی و اپتیکی لایه های نازک ترکیبی TixSi1-xO2 که به روش اسپاترینگ همزمان واکنشی فرکانس رادیویی (RF) در محیط گاز مخلوط آرگون( % ۶۰ ) واکسیژن( % ۴۰ ) رشد داده شده اند، مورد مطالعه و بررسی قرار گرفته است. برای بررسی خاصیت آبدوستی نمونه ها از اندازه گیری زاویه تماس قطرات آب با سطح لایه استفاده شد. این زاویه با تابش اشعه ماورای بنفش (UV) روی سطح لایه به میزان قابل توجهی کاهش می یابد. با قطع تابش اشعه UV به تدریج خاصیت آبدوستی از بین می رود، ولی مشاهده گردید که نمونه ترکیبی Ti0.56Si0.44O2 تا مدت زمان طولانی خاصیت آبدوستی خود را حفظ نمود. همچنین ضرایب عبور و بازتاب لایه ها با روش طیف سنجی نوری در محدوده طول موج مرئی و ماورای بنفش نزدیک اندازه گیری گردید. مشاهده شد که با افزایش میزان اکسید تیتانیم در ترکیب، میزان عبورکاهش یافته و به مقدار بازتاب لایه افزوده می شود.