سال انتشار: ۱۳۸۶

محل انتشار: یازدهمین کنگره سالانه انجمن مهندسین متالورژی ایران

تعداد صفحات: ۱۰

نویسنده(ها):

احسان محمد شریفی – دانشجوی کارشناسی، دانشکده مهندسی مواد، دانشگاه صنعتی مالک اشتر
علی قاسمی – استادیار، دانشکده مهندسی مواد، دانشگاه صنعتی مالک اشتر

چکیده:

لایه ضخیم فریت باریم با ترکیب BaFe12O19 با استفاده از فرایند سل – ژل به روش چرخشی تهیه شد. سل توسط پودرهای توزیع یافته در محلول اولیه فریت باریم تشکیل شد. ارزیابی ساختار، ترکیب و خواص مغناطیسی لایه ضخیم فریت باریم توسط VSM ، EDX ، SEM ، XRD، پذیرفتارسنج ac انجام شد. نتایج نشان داد که می توان پوشش فریت باریم عاری از ترک با ضخامت حدود ۱۵ μm تولید کرد. مشخص شد حلقه های پسماند مغناطیس برای میدان مغناطیسی اعمالی در هر دو حالت موازی و عمودی تقریبا یکسان بودند.