سال انتشار: ۱۳۸۷

محل انتشار: نهمین سمینار ملی مهندسی سطح و عملیات حرارتی

تعداد صفحات: ۱۱

نویسنده(ها):

مهدی طاهری – دانشجوی کارشناسی ارشد دانشکده مهندسی و علم مواد- دانشگاه صنعتی شریف
ابولقاسم دولتی – دانشیار ء دانشکده مهندسی و علم مواد- دانشگاه صنعتی شریف

چکیده:

دراین تحقیق فرایند رسوبدهی الکتروشیمیایی نانووایرهای تک لایه مس و چند لایه مس/کبالت در تمپلیت پلی کربناتی با حفرات ۸۰ نانومتری در حمام آبی حاوی سولفات مس سولفات کبالت و اسید بوریک مطالعه شده است.منحنی های ولتامتری سیکلی در حمام حاوی غلظت های متفاوت سولفات مس برای بررسی رفتار الکتروشیمیایی استخراج گردیده و از منحنی های کرونوآمپرومتری در اورپتانسیل های مختلف برای مطالعه مکانیزم های رسوبدهی استفاده شد.با استفاده از میزان بار انتقالی راندمان رسوبدهی مس بدست آمده و ضخامت های لایه های مس و کبالت با بررسی تصاویر میکروسگوپ الکترونی عبوری با شرایط واقعی مقایسه گردید. مشاهده گردید که با افزایش اورپتانسیل سرعت رشد نانو وایرهای مس و کبالت افزایش یافته است.همچنین مشخص گردید که در حمام های حاوی کاتیون های هر دو جز مکانیزم کنترل کننده لایه های مس از نوع دیفوزیونی و لایه های کبالت از نوع انتقال بار میباشد.