سال انتشار: ۱۳۸۶

محل انتشار: یازدهمین کنگره سالانه انجمن مهندسین متالورژی ایران

تعداد صفحات: ۱۰

نویسنده(ها):

فاطمه بقایی راوری – عضو هیئت علمی بخش مهندسی متالورژی دانشگاه شهید باهنر کرمان
اطهره دادگری نژاد – عضو هیئت علمی بخش مهندسی متالورژی دانشگاه شهید باهنر کرمان

چکیده:

مطالعه ازدارندگی دو شیف باز با نامهای bis-(2-hydroxy-3-methoxy)-1,6-diaminohexane salicyladimine و bis-(2-hydroxy)-1,6-diaminohexane salicyladimine روی مس در اسید سولفوریک نیم مولار با استفاده از روشهای الکتروشیمیایی (AC امپدانس و پلاریزاسیون تافل) انجام شده است. نتایج بدست آمده از منحنی های نایکوئیست نشان می دهد که افزایش غلظت این دو شیف باز باعث افزایش مقاومت انتقال بار و کاهش ظرفیت لایه دو گانه و در نتیجه باعث افزایش راندمان حفاظت آنها برای مس در اسید سولفوریک نیم مولار شده است. این دو شیف باز ممانعت کننده های مناسبی برای مس در اسید سولفوریک نیم مولار هستند و هر دو ماده از نوع ممانعت کننده های آندی می بشند و به صورت جذب شیمیایی بر روی سطح مس مانع از خوردگی آن می شوند و این دو شیف باز از جذب ایزوترم لانگمیر پیروی می کنند.