سال انتشار: ۱۳۸۶

محل انتشار: کنفرانس فیزیک ایران ۱۳۸۶

تعداد صفحات: ۴

نویسنده(ها):

محمد بیک احمدی – آزمایشگاه تحقیقاتی لایه های نازک، دانشکده مهندسی برق وکامپیوتر، دا
بهزاد اسفندیار پور – آزمایشگاه تحقیقاتی لایه های نازک، دانشکده مهندسی برق وکامپیوتر، دا
شایان بهرامی نژاد – آزمایشگاه تحقیقاتی لایه های نازک، دانشکده مهندسی برق وکامپیوتر، دا
فاطمه دهقان نیری – آزمایشگاه تحقیقاتی لایه های نازک، دانشکده مهندسی برق وکامپیوتر، دا

چکیده:

لایه های نانو بلوری اکسید روی با استفاده از سیستم کندوپاش RF بر روی زیر لایه شیشه و بدون گرمادهی زیر لایه در محیط گاز آرگون لایه نشانی شده اند . با استفاده از آنالیز پراش اشعه (XRD) X و آنالیز میکروسکوپ الکترونی (SEM) ساختار بلوری و ساختار سطحی لایههای نانو بلوری اکسید روی بررسی گردیده است . لایه های اکسید روی در محیط گاز آرگون و اکسیژن گرمادهی شده و طیف عبور نوری آنها به کمک آنالیز FTIR بدست آمده است . آنالیز XRD افزایش اندازه دانه های اکسید روی و جهت گیری غالب (۰۰۲) را پس از گرمادهی در دمای ۴۰۰ °C نشان می دهد . با استفاده از روش Swanepoel ثابت های نوری لایه های نانو بلوری اکسید روی از قبیل اندیس انکساری و ضریب جذب محاسبه شده و تاثیر فرایند گرمادهی بر روی ضرایب مذکور بررسی گشته است