سال انتشار: ۱۳۸۷

محل انتشار: نهمین سمینار ملی مهندسی سطح و عملیات حرارتی

تعداد صفحات: ۹

نویسنده(ها):

رضا فاضلی – دانشجوی دکتری، دانشکده فیزیک، دانشگاه علم و صنعت ایران
محمدحسین مهدیه – دانشیار، دانشکده فیزیک، دانشگاه علم و صنعت ایران

چکیده:

اشعه ایکس پالسی از پلاسمای تولید شده در بر هم کنش پالسهای لیزری با فلزات گسیل میشود یکی از کاربردهای مهم این نوع اشعه ایکس استفاده از لیتو گرافی میباشد دراین مقاله افزایش میزانتابش اشعه ایکس ترمزی با بکار گیری یک هدف مسی با سطح نانو ساختار در محدوده های طول موجی ۱-۲۰ nm که برای لیتو گرافی مناسب است بررسی شده استمحاسبات برای پالش لیزری کوتاه در محدوده ۵۰ ps انجام شده است سطح نانو ساختار هدف مسی به صورت یک لایه نازک با چگالی جرمی متغیر شبیه سازی شده است که در واقع کنترل میزان تخلخل سطح نانو ساختار را امکان پذیر میسازد نتایج برای شدت لیزری ۱۰۱۴ W/cm2نشان میدهند که با کاهش چگالی لایه نانو ساختار میزان تولید اشعه ایکس در محدوده طول موجی مذکور افزایش قابل ملاحظه ای خواهد داشت با کاهش نسبت چگالی لایه نانویی ب هزیر لایه تا نسبت ½ تاثیر چندانی در انرژی کل تابش ایجاد نمیگردد ولی با کاهش بیشتر نسبت به۶/ ۱افزایش قابل توجهی در میزان تشعشع بوجود میاید.