سال انتشار: ۱۳۸۵

محل انتشار: چهاردهمین همایش بلور شناسی و کانی شناسی ایران

تعداد صفحات: ۴

نویسنده(ها):

قاسم کاوه ای – پژوهشکده نیمه هادیها، پژوهشگاه مواد و انرژی
علی محمدی قیداری – پژوهشکده نیمه هادیها، پژوهشگاه مواد و انرژی

چکیده:

لایه های نازک اکسید ایندیم و قلع (ITO) با ضخامت ۱۵۰nm با استفاده از دستگاه باریکه الکترونی روی شیشه لایه گذاری شد. لایه گذاریها در دمای اتاقانجام شده و به منظور بهبود خواص الکترواپتیکی و ساختاری، لایه ها در کوره خلا تحت عملیات حرارتی قرار گرفتند. تغییرات خواص ساختاری، الکتریکی و نوری لایه ها با تغییر دمای کوره مورد بررسی قرار گرفته ومشاهده شد که در دمای ۴۰۰ درجه سانتی گراد می توان به بیشتریندرصد عبور و در عین حال کمترین مقاومت سطحی دست یافت . با استفاده از انالیز AFM , XRD دیده شد که در این دمنا لایه ها دارای ساحتار چند بلور با بافت سطحی <111> شده و دانه های کریستالی در این جهت نیز ۳۵-۴۰nm می باشد.