سال انتشار: ۱۳۸۴

محل انتشار: نهمین کنگره ملی خوردگی ایران

تعداد صفحات: ۱۵

نویسنده(ها):

مریم احتشام زاده – دانشجوی دکتری بخش مهندسی مواد، دانشکده فنی دانشگاه تربیت مدرس
تقی شهرابی فراهانی – دانشیار بخش مهندسی مواد، دانشکده فنی دانشگاه تربیت مدرس
میرقاسم حسینی – استادیار دانشکده شیمی، دانشگاه تبریز

چکیده:

از دو شیف باز متقارن سنتز شدة جدید، جهت کاهش سرعت خوردگی مس در سولفوریک اسید ٠,٥ مولار استفاده شد و رفتار الکتروشیمیائی مس در حضور فیلم های خودمجموعه ساز این شیف بازها به کمک روشهای پلاریزاسیون تافل و امپدانس Ac مورد بررسی قرار گرفت . نتایج نشان دادند که بازدارنده های مورد آزمایش از نوع مختلط بوده و با جذب شدن بر روی مکانهای سطح، واکنش کاتدی و واکنش آندی را مختل می سازند . هر دو شیف باز استعداد بازدارندگی ً نسبتا خوبی در محیط اسیدی مذکور دارا می باشند که با افزایش غلظت، مقاومت پلاریزاسیون و در نتیجه راندمان بازدارندگی نیز افزایش می یابد و راندمان بازدارندگی شیف باز S2 بیش از S1 بود . در غلظتهای پایین که امکان استفاده از بازدارنده ها از لحاظ اقتصادی توجیه پذیرتر می باشد راندمان آنها پایین می باشد . لذا، راندمان بازدارندگی شیف بازها در حضور پروپان تیول و١ – دودکان تیول ارزیابی شد و مشاهده شد که آلکان تیولها با ایجاد اثر تزاید تقویتی قادر به بهبود خواص حفاظتی فیلمهای خودمجموعه ساز شیف بازها روی سطح الکترود مس می باشند