سال انتشار: ۱۳۸۶

محل انتشار: یازدهمین کنگره سالانه انجمن مهندسین متالورژی ایران

تعداد صفحات: ۱۳

نویسنده(ها):

فرهاد ادیب حاج باقری – کارشناس ارشد مهندسی مواد
سید فرشید کاشانی بزرگ – دانشیار دانشکده مهندسی مواد و متالورژی، پردیس دانشکده فنی، دانشگاه
احمد علی آماده – استادیار دانشکده مهندسی مواد و متالورژی، پردیس دانشکده فنی، دانشگاه
تقی موسی الرضایی – کارشناس ارشد مهندسی مواد

چکیده:

فرایند قوس تنگستن (TIG) جهت آلیاژ سازی سطحی تیتانیم خالص تجاری (CP-Ti) با سیلیسیم مورد استفاده واقع شد و لایه های آلیاژی سطحی بر مبنای ترکیب بین فلزی Ti5Si3 حاصل گردید. بکمک تغییر حرارت ورودی، عمق و پهنا و میزان سیلیسیم لایه های آلیاژی کنترل شد. بررسی لایه های آلیاژی با میکروسکوپی نوری و الکترونی روبشی، پراش سنجی پرتو ایکس، سنجش شدت انرژی طیف پرتو X، سنجش سختی میکروسکوپی و آزمایش اکسایش تکدما صورت پذیرفت. بررسیها نشان داد که ساختار لایه های آلیاژ شده سطحی به صورت انجماد دندریتهای α-Ti همراه با مناطق بین دندریتی با مورفولوژی یوتکتیکی بر مبنای α-Ti+Ti5Si3 می باشد که باعث افزایش میزان سختی آنها نسبت به زیر لایه تا حدود ۵ برابر شده است. همچنین اکسایش نمونه های آلیاژ شده سطحی در دمای ۹۰۰ درجه سانتیگراد نشان از مقاومت به اکسایش بهتر آنها نسبت به زیر لایه داشت که محتملا به علت سرعت کمتر نفوذ اکسایش در ترکیبات بین فلزی و اکسید متراکم شده با سیلیسیم می باشد.