سال انتشار: ۱۳۸۶

محل انتشار: چهاردهمین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران

تعداد صفحات: ۵

نویسنده(ها):

محمد حسن یوسفی – گروه فیزیک ، دانشگاه صنعتی مالک اشتر، شاهین شهر
ابوالحسن نازش – گروه فیزیک،دانشگاه آزاد اسلامی واحد گچساران
علی اعظم خسروی – گروه فیزیک ، دانشگاه شاهد،تهران
سهراب منوچهری – گروه فیزیک ، دانشگاه صنعتی مالک اشتر، شاهین شهر

چکیده:

در این تحقیق با استفاده از روش شیمیایی مرطوب و خاصیت مهار کنندگی مرکپتواتانول نانو ذرات سولفیدروی در ابعاد ۱ تا ۲ نانومتر تولید شدند. آلاییدن Mn از ۱ تا ۹ درصد مولی در سولفید روی انجام و پس از سنجش طیفهای جذب (Uv-Vis) تحریک و گسیل XRD, PLو TEM به تحلیل آنها پرداخته و بهترین درصد مولی آلایش(۶%) ، بهترین تحریک (۲۸۵nm) و بالاترین گسیل (۵۷۲nm) ثبت و تحلیل گردیده است. مطالعه صیف های PL,XRD,UV-Vis و تصاویرTEM به ازای درصد های آلاییدگی مختلف از ۰ تا ۹ درصد، کاهش اندازه ذرات و طول موج جذب Uv-ViSو افزایش انرژی گاف و شدت گسیل PL را به ازای افزایش درصد آلاییدگی نشان می دهد. تصاویر TEM به خوبی یکنواختی توزیع ذرات و اندازه کوچک آنها را نشان می دهند.