سال انتشار: ۱۳۸۶

محل انتشار: ششمین کنگره سرامیک ایران

تعداد صفحات: ۸

نویسنده(ها):

هادی قاسمی – دانشگاه صنعتی شریف
امیرحسین کوکبی – دانشگاه صنعتی شریف
محمدعلی فقیهی ثانی – دانشگاه صنعتی شریف
زعفر ریاضی – مرکز تحقیقات بناب

چکیده:

در تحقیق حاضر نقش لایه اکسیدی مس، اتمسفر کوره و تخلخل ها در استحکام اتصالی وتکتیکی آلومینامس مورد بررسی قرار گرفته است . اتصال به روش یوتکتیکی از طریق اعمال یک لایه اکسیدی مس بر روی سطح مس، در تماس قرار دادن با نمونه آلومینایی و اتصال در کوره با دمای ۱۰۷۵ ± ۲ °C و اتمسفر مشخص انجام شده است . اتمسفر اتصال در مرحله اول آرگون با فشار جزیی اکسیژن ۲ * ۱۰ به توان (-۶) اتمسفر در مرحله دوم آرگون و هیدروژن با فشار جزیی اکسیژن ۱۰ به توان (-۷) اتمسفر و در مرحله سوم کوره خلا با اتمسفر ۵×۱۰ -۸ atm انتخاب شده است . نتایج اندازه گیری استحکام Peel نمونه های مرحله اول نشان می دهد که یک لایه اکسیدی به ضخامت تقریبی ۳۲۰ ± ۲۰ nm بیشترین استحکام۱۳/۱ ± ۰/۷ kg/cm رادر سطح اتصال ایجاد می کند . در مرحله دوم با استفاده از اتمسفر آرگون و هیدروژن سطح اتصال بدون ذرات Cu2O ایجاد شده است که استحکام اتصال به طور چشمگیری تا حدود ۱۷/۱ ± ۰/۶ g/cm افزایش یافته است . همچنین تغییرات استحکام اتصال در طول اتصال بسیار ناچیز می باشد . در نهایت نتایج انجام اتصال در کوره خلا با اتمسفر ۵ * ۱۰ به توان (-۸) atm بیانگر این مساله می باشد که گاز محافظ اتمسفر کوره هیچ تاثیری بر تخلخل های موجود در سطح اتصال ندارد و انجام اتصال در کوره خلا تا حدودی نیز استحکام اتصال را به دلیل ایجاد تخلخل های بیشتر و با ابعاد بزرگتر کاهش می دهد .