سال انتشار: ۱۳۸۵

محل انتشار: یازدهمین کنگره ملی مهندسی شیمی ایران

تعداد صفحات: ۸

نویسنده(ها):

شهرام دانش پژوه – بخش مهندسی شیمی دانشکده فنی دانشگاه شهید باهنر کرمان
امیر صرافی – بخش مهندسی شیمی دانشکده فنی دانشگاه شهید باهنر کرمان
علیرضا محبی – بخش مهندسی شیمی دانشکده فنی دانشگاه شهید باهنر کرمان

چکیده:

فرآیندهای انحلال و ترسیب در پالایش الکتر ولیتی مس، بطور گسترد های از ضریب نفوذ یونهای مس تأثیر م یپذیرند. در این تحقیق از یکی از تکنیکهای الکتروشیمیایی دینامیکی به نام(LSV) Linear Sweep Voltametryبه منظور اندازه گیری ضریب نفوذ(Diffusion Coefficient) یون Cu++در لایه نرنست مجاور سطح کاتد استفاده شده است. سپس تاثیر تغییرات غلظت یون مس و غلظت گلو(Glue) بر روی ضریب نفوذ Cu++در الکترولی ت صنعتی شبیه سازی شده مشابهواحد پالایش الکترولیتی مس مجتمع مس سرچشمه، مورد ارزیابی و تحقیق قرار گرفته است. تغییرات غلظ ت مس و گلو در٠ میلی گرم بر لیتر – این تحقیق به ترتیب ٦٠٠ گرم بر لیتر و ١٠٠(ppm)در نظر گرفته شد ه است . افزایش غلظتمس در الکترولیت سولفات مس اسیدی ب ه مقدار اندکی ضریب نفوذ مس را افزایش داده و افزایش غلظت گلو مقدار اندکی ضریب نفوذ مس را کاهش می دهد.