سال انتشار: ۱۳۸۴

محل انتشار: نهمین کنگره سالانه انجمن مهندسین متالورژی ایران

تعداد صفحات: ۹

نویسنده(ها):

حسن حیدری – دانشجوی کارشناسی ارشد شناسایی و انتخاب مواد دانشکده مهندسی مواد – دان
حمید دهاقین – کارشناس و محقق مرکز پژوهش و مهندسی سطح ایران مرکز پژوهش و مهندسی سطح ا
محمدرضا طرقی نژاد – استادیار دانشکده مهندسی مواد – دانشگاه صنعتی اصفهان
فخرالدین اشرفی زاده – استاد دانشکده مهندسی مواد – دانشگاه صنعتی اصفهان

چکیده:

خواص پوشش های رسوب فیزیکی بخار (PVD) به نحو قابل ملاحظه ای از پارامترهای فرایند تاثیر می پذیرد . در این پژوهش، دو فرایند تبخیر در خلا و پوشش دهی یونی (Ion Plating) مورد بررسی قرار گرفته اند . تاثیر فاصله زیرلایه تا منبع تبخیر در روش تبخیر در خلا و اثر توام ولتاژ پلاسما و فشار گاز آرگون روی مشخصات رسوب بخار یونی آلومینیوم (Ion Vapour Deposition)IVD ، با ایجاد پوشش روی فولاد ابزاری گرمکار H11 بررسی شد . پوشش ها با استفاده از میکروسکوپ های نوری، الکترونی روبشی، زبری سنج و ضخامت سنج مورد ارزیابی قرار گرفتند . بررسی خواص ظاهری و مورفولوژی پوشش ها نشان داد که ساختار به صورت ستونی متخلخل است . با ارزیابی ظاهری پوشش ها ، فاصله زیرلایه تا منبع حرارتی در محفظه موجود cm ۸ به عنوان فاصله بهینه انتخاب گردید و در ولتاژ ۳ کیلوولت و فشار ۰۱ میلی تور، پوشش بهینه حاصل شد . اندازه گیری ضخامت پوشش نشان داد که پوشش های اعمالی به روش پوشش دهی یونی، توزیع یکنواخت تری از ضخامت را در مقایسه با پوشش های تبخیری دارا هستند