سال انتشار: ۱۳۸۶

محل انتشار: دومین همایش دانشجویی فناوری نانو

تعداد صفحات: ۶

نویسنده(ها):

احمد ایران نژاد – بخش مهندسی مواد ، دانشکده مهندسی ، دانشگاه شیراز
محمدابراهیم بحرالعلوم – بخش مهندسی مواد ، دانشکده مهندسی ، دانشگاه شیراز
کمال جانقربان – بخش مهندسی مواد ، دانشکده مهندسی ، دانشگاه شیراز

چکیده:

در این تحقیق آبکاری الکتریکی لایه های نازک نانومتری مس / نیکل مورد بررسی قرار گرفت . لایه های نازک نانومتری که در آنها یک لایه مغناطیسی باشد و لایه مجاور غیر مغناطیسی باشد دارای خاصیت " ابررسانائی مغناطیسی " GMR )هستند و در ساخت هدهای کامپیوتر از آنها استفاده می شود . از حمام واتس برای آبکاری لایه های نیکل و از حمام اسیدی سولفات مس برای آبکاری لایه های مس استفاده شد . با بهینه سازی شدت جریان و زمان آبکاری که از پارامترهای مهم این فرآیند می باشند لایه های نازک نانومتری نیکل ۵۰) نانومتر ) و مس ۱۰۰) نانومتر ) ساخته شد و با استفاده از میکروسکوپ الکترونی عبوری ساختار آنها مورد بررسی قرار گرفت . نتایج حاصل از آبکاری با جریان پالسی حاکی از این بود که با اعمال یک جریان پالسی مطلوب می توان زمان بحرانی و در نتیجه ضخامت لایه ها را تا ۱ ⁄ ۴ کاهش داد .