سال انتشار: ۱۳۸۷

محل انتشار: نهمین کنفرانس ماده چگال

تعداد صفحات: ۴

نویسنده(ها):

الهام شادمانی – گروه فیزیک، دانشکده علوم پایه –دانشگاه گیلان،رشت
سید محمد روضاتی –

چکیده:

در این تحقیق، ما ویژگی های فیزیکی لایه های نازک اکسید قلع خالص و آلاییده شده با روی را با جزئیات مورد بررسی قرار می دهیم. فیلم های نازک بر سطح زیرلایه های شیشه ای و در دمای ۴۵۰ درجه سانتیگراد به روش اسپری پایرولیزز تهیه می شوند. اکسید قلع دو آبه ( SnCl2.2H2O) و استات روی ( Zn(CH3COO)2.2H2O) به ترتیب به عنوان منابع اصلی قلع (Sn) و روی (Zn) مورد استفاده قرار می گیرند. غلظت آلاینده Zn در محلول اولیه در رنج ۰-۲۵ wt% متغییر است. اثر افزایش غلظت Zn بر خواص ساختاری و اپتیکی لایه های ۲ SnO توسط روش های مختلف از قبیل AFM ، SEM ، XRD و طیف عبور UV-visible بررسی می شود. تغییرا ت الکتریکی لایه ها توسط دستگاه اثر هال و واندرپو قابل اندازه گیری است.