سال انتشار: ۱۳۸۶

محل انتشار: سومین کنفرانس ملی خلاء

تعداد صفحات: ۴

نویسنده(ها):

مهدی رنجبر – دانشکده فیزیک
اعظم ایرج یزاد – دانشکده فیزیک، پژوهشکده نانو دانشگاه صنعتی شریف
سید محمد مهدوی – دانشکده فیزیک

چکیده:

لایه های اکسید تنگستن به روش لایه نشانی لیزر پالسی در محیط اکسیژن و همچنین در خلا ساخته شدند. با استفاده از XPS معلوم شد. نمونه اول حالت W+6 و با نسبت O/w=3 و دمی حالت های به صورت W+4>W+5>W+6<W0 و با نسبت O/w=1 دارند. ما از مقاومت سنجی در خلاء برای مشاهده پدیده واجذب اکسیژن در حین لایه نشانی استفاد کردیه ایم. داده برداری سریع از مقاومت در حین لایه نشانی افت و خیزهایی را آشکار کرد که با استفاده از نتایج آنالیز سطحی آنها را به واجذب اکسیژن از سطح نسبت داده ایم. در نهایت اثر بر هم کنش لیزر با تارگت هم بررسی شد.