سال انتشار: ۱۳۸۵

محل انتشار: هشتمین کنفرانس ماده چگال

تعداد صفحات: ۴

نویسنده(ها):

کاظم زندی – گرو
سعیده ثقفی – مرکز تحقیقات فیزیک پلاسما ، دانشگاه آزاد اسلامی واحد علوم و تحقیقات ،
شمس الدین مهاجرزاده – دانشکده مهندسی برق و کامپیوتر دانشگاه تهران
عزت اله ارضی – آزمایشگاه نانو فیزیک، دانشکده فیزیک دانشگاه تهران

چکیده:

در این مقاله یک روش جدید برای زدایش عمودی قرص سیلیکان (۱۱۱) گزارش شده است . در حالیکه زدایش با استفاده از فاز بخار مخلوطی از محلول اسیدهای فلوئور سیلیسیک (H2 SiF6) و نیتریک انجام می شود نور لیزر، زدایش را در جهت تابش در اثر القا تقویت می کند . زدایش ًآهنگ شدیدا به طول موج نور لیزر و درصد ترکیبات محلول بستگی دارد و حداکثر تا آهنگ ۳۰μm hr قابل دسترسی است . با استفاده از میکروسکوب الکترونیو عکسبرداری اپتیکی به کمک میکروسکوپ ، خالی شدن زیر ماسک مورد بررسی قرار گرفته و نتایج آن گزارش شده است