سال انتشار: ۱۳۸۲

محل انتشار: هشتمین کنگره ملی مهندسی شیمی ایران

تعداد صفحات: ۷

نویسنده(ها):

مهران رضایی – دانشکده مهندسی شیمی ، دانشگاه علم و صنعت ایران ، تهران ، ایران
عباس طائب – دانشکده مهندسی شیمی ، دانشگاه علم و صنعت ایران ، تهران ، ایران
نرگس حبیبی – دانشکده مهندسی شیمی ، دانشگاه علم و صنعت ایران ، تهران ، ایران

چکیده:

روش CVD برای تهیه فتوکاتالیست دی اکسید تیتانیم بر روی پایه متخلخل آلومینا به کار برده شده است . از تیتانیم تترا ایزوپروپکسید(TTIP) به عنوان ماده اولیه استفاده شده است . TTIP ابتدا در درون حفره ها و منافذ آلومینا تحت خلاء نشانده شده وسپس تحت شرایط کنترل شده به دی اکسید تیتانیم تجزیه می گردد . نتایج نشان داده است که مقدار دی اکسید تیتانیم رسوب داده شده، تحت تاثیر پارامترهایی چون سرعت جریان ماده اولیه مورد استفاده در تهیه کاتالیست و روشهای رسوب دهی و تجزیه دارد . همچنین در ساختار فتوکاتالیست هتروژنی تولید شده بوسیلهCVD ساختار کریستالی آناتاز دیده می شود.