سال انتشار: ۱۳۸۶

محل انتشار: کنفرانس فیزیک ایران ۱۳۸۶

تعداد صفحات: ۴

نویسنده(ها):

علی اکبر اشکاران – پژوهشکده علوم و فناوری نانو، دانشگاه صنعتی شریف
اعظم ایرجی زاد – پژوهشکده علوم و فناوری نانو، دانشگاه صنعتی شریف، دانشکده فیزیک، دانش
محمدمهدی احدیان – پژوهشکده علوم و فناوری نانو، دانشگاه صنعتی شریف
سیداحمد مهدوی اردکانی – دانشکده صنعت هواپیمایی کشوری، تهران

چکیده:

نانوذرات اکسید تنگستن به روش تخلیه قوس الکتریکی در محیط آب دو بار یونیزه ساخته شده اند . نتایج آنالیز پراکندگی نور (DLS) نمونه ها بیانگر تشکیل ذراتی بااندازه ۳۰ nm در جریان قوس ۱۲۵ A است و با افزایش جریان قوس، اندازه ذرات به دست آمده بزرگتر شده و توزیع آنها نیز گسترده تر می گردد . تصاویر میکروسکوپ (AFM) نشان می ده ند که با افزایش جریان تخلیه قوس الکتریکی اندازه نانوذرات نیز بزرگ می شوند . تصویر میکروسکوپ نیروی اتمی (SEM) الکترونی روبشی نانوذرات نشانده شده بر روی زیر لایه سیلیکن نیز با نتایج آنالیزSEM و DLS سازگار است . طیف پراکندگی اشعه ایکس (XRD) و طیف سنجی اشعه ایکس(XPS)نمونه ها نشان دهنده تشکیل فاز تری اکسید تنگستن و وضعیت شیمیایی WO3بر روی سطح نانوذرات است.