سال انتشار: ۱۳۸۸

محل انتشار: دومین کنفرانس ملی مهندسی ساخت و تولید

تعداد صفحات: ۶

نویسنده(ها):

هاله کنگرلو – دکترای تخصصی استادیار عضو هیئت علمی دانشگاه آزاد اسلامی واحد ارومیه
اکبر عبدی سرای – کارشناسی فارغ التحصیل رشته فیزیک دانشگاه آزاد اسلامی واحد ارومیه
رضا محمدی قره باغ – کارشناسی فارغ التحصیل رشته فیزیک دانشگاه آزاد اسلامی واحد ارومیه

چکیده:

لایه ای نازک TiO2 به روش تبخیر مقاومتی فیزیک، تحت شرایط خلاء بالا ( UHV) روی ریز لایه شیشه در دمای اتاق و در سه ضخامت متفاوت ۱۳ ، ۳۰ و ۵۸ نانومتر تهیه شده اند. نانوساختار این لایه ها با روشهای مختلف آنالیزی XRD,AFM و اسپکتروفوتومتری مورد بررسی قرار گرفت.