سال انتشار: ۱۳۹۰

محل انتشار: دومین همایش ملی مهندسی اپتیک و لیزر ایران

تعداد صفحات: ۶

نویسنده(ها):

مریم علیزاده پهلوانی – گروه مهندسی برق دانشگاه آزاد اسلامی واحد بهبهان، ایران،
محمد عروتی نیا – دانشکده علمی کاربردی پست و مخابرات، وزارت ارتباطات و فناوری اطلاعات ت

چکیده:

در این مقاله چگونگی ساخت لایه نانویی و شفاف اکسید روی با استفاده از تکنیکهای روکشکاری اسپینینگو دیپینگ SOL-GELروی زمینه شیشه و سرامیکتوضیح داده شده است. ویژگی های ساختاری توسط میکروسکوپ اسکن الکترونیSEM) بررسی شده اشت. با منحنی آرنیوس(منحنی رسانندگی به T1دو شیب متفاوت برای لایه مشاهده شد که دو نوع مکانیسم متفاوت تولید دما بالا و دما پایین را نشان می داد. انرژی اکتیواسیون این فیلم برای دماهای پایین۰٫۱۲, ۰٫۱۱eV به ترتیب برای زمینه شیشه و سرامیک بدست آمد که متناسب با مقدار حاملهای بخشنده در گاف نواریZnO می باشد و در دماهای بالا ۰٫۳۴۴۸, ۰٫۴۳۱eV به ترتیب برای شیشه و سرامیکبدست آمد. همچنین ویژگیهای نوری لایه ها بر اساسدرصد گذر نوریT%) نسبت به طول موج بررسی شدند.