سال انتشار: ۱۳۸۵

محل انتشار: کنفرانس فیزیک ایران ۱۳۸۵

تعداد صفحات: ۳

نویسنده(ها):

سید روح ا… احمدی – دانشگاه صنعتی شریف، دانشکده فیزیک، آزمایشگاه نانو، تهران
نیما تقوی نیا – دانشگاه صنعتی شریف، دانشکده فیزیک، آزمایشگاه نانو، تهران

چکیده:

لایه های TiO2 به روش رسوب شیمیایی بخار (CVD) ساخته شدند. این لایه ها دارای استحکام وچسبندگی خوبی بوده و دارای ساختار نانومتری می باشند. طیف عبور اپتیکی از این لایه ها نشان می دهد که ضخامت لایه ها در حدود ۲۷۰ نانومتر می باشد. ساختار کریستالی این لایه ها در فاز کریستالی اناتاس تشکیل شده اند و دارای خواص فوق آبدوستی قوی می باشند و در مدت زمان کمی فعال می شوند.