سال انتشار: ۱۳۷۴

محل انتشار: دومین کنگره سرامیک ایران

تعداد صفحات: ۷

نویسنده(ها):

فتح اله مضطرزاده – پژوهشگاه مواد و انرژی
اصغر کاظم زاده – پژوهشگاه مواد و انرژی

چکیده:

دی اکسید سیلیسیم با درجه خلوص بالا به منظور استففاده در صنایع سرامیک، الکترونیک و به ویژه در ساخت سنسورهای یمیایی اهمیت بسزایی دارد. این ماده طی دو مرحله در آزمایشگاه تهیه شده است.
مرحله اول تهیه تتراکلرید سیلیسیم (SiCl4) می باشد که از ترکیب گاز کلر با فروسیلیکون صنعتی در دمای ۲۰۰-۱۹۰ درجه سانتیگراد به صورت مخلوط ترکیبات کلره سیلیکون به دست می آید که با توجه به اختلاف نقطه جوش مخلوط، روش تقطیر ساده و جزء به جزء در جداسازی تتراکلریدسیلیسیم موفقیت آمیز است. شستشوی تتراکلرید سیلیسیم به روش شیمیایی به منظور حذف عناصر مزاحم و بالا بردن درجه خلوص این ماده ( تا ۹۹/۹۹ درصد) بسیار موثر بوده است. طی بررسی های آزمایشگاهی مشخص شده که برای تهیه هر ۱۵۰ml از این ماده سه ساعت وقت لازم است.
مرحله دوم تبدیل تتراکرید سیلیسیم تهیه شده به پودری دی اکسید سیلیسیم می باشد. در اثر ترکیب آب با تتراکلرید سیلیسیم و جایگزینی عامل -(OH) با کلر، ژل شفافی بدست می آید که به دو روش می تواند دهیدراته گردد. روش اول، حرارت دادن مستقیم در خشک کن خلاء صورت می گیرد پودر حاصل آمورف است. برای تهیه پودر دی اکسیدسیلیسیم با اندازه های متفاوت از الکل های مختلف استفاده شد. بزرگ یا کوچک بودن بنیان الکلی در ایجاد دانه بندیهای متفاوت از این پودر موثر است. برای آنالیز از روشهای شیمیایی (انحلال) استفاده شد و درجه حاصل به ۹۹/۹۹ درصد رسید. استفاده از مواد اولیه خالص شده و سادگی روش آنالیز در تعیین درجه خلوص از محاسن این روش تهیه پودر می باشد.