سال انتشار: ۱۳۸۴

محل انتشار: دوازدهمین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران

تعداد صفحات: ۴

نویسنده(ها):

حمیدرضا فلاح – دانشگاه اصفهان
آیت الله کریمزاده – دانشگاه اصفهان

چکیده:

لیتوگرافی EUV روشی برای رسیدن به توان جداسازی بسیار بالا است . به علت نبودن ماده شفاف درناحیه EUV در بخش ازسیستم بازتابی استفاده می شود . کنترل ابیراهی ها وبهینه سازی درسیستم انتقال تصویر اهمیت زیادی دارد . دراین سیستم انتقال تصویر شش آینه ای با استفاده ازنرم افزارطراحی اپتیکی OSLO طراحی شده است که نتایج آن بر اساس ارزیابی تصویر بسیار خوب است . در این طراحی . برای بهینه سازی هرچه بیشتر از سطوح غیرکروی استفاده شده است .