سال انتشار: ۱۳۸۷

محل انتشار: کنفرانس فیزیک ایران ۱۳۸۷

تعداد صفحات: ۵

نویسنده(ها):

محمود حسینی فرزاد – دانشکده علوم ، بخش فیزیک دانشگاه شیراز
عبدالمجید رضازاده – دانشگاه مالک اشتر
اسماعیل زاهدی – ساخت قطعات اپتیک ، صنایع الکترونیک شیراز

چکیده:

دراین مقاله فرایند طراحی و ساخت پوشش ضد بازتاب چند لایه بر روی زیر لایه ژرمانیوم برا ی نواحی مادون قرمز دور مورد بررسی قرار می گیرد.در ابتدا بررسی کاملی بر روی مواد مختلف انجام و مواد مناسب شناسایی و انتخاب شده اند .سپس طراحی پوشش مورد نظر با هدف رساندن توان عبور قطعه ژرمانیوم از %۴۷ به حدود ۹۵ % بر اساس ماتریس های انتقال انجام شده و با شبیه سازی نرم افزاری، طرح لایه نشانی بهینه سازی گردید . برای لایه نشانی از روش تبخیر فیزیکی ( PVD) استفاده شده و برای بهینه سازی فرایند لایه نشانی توسط دستگاه دستورالعمل های مناسبی استخراج گردید . و همچنین توان عبوری از ژرمانیوم توسط به دستگاه طیف سنج فوریه ( FTIR) اندازه گیری شده که با مقدار مورد انتظار از طراحی تطابق خوبی دارد.