سال انتشار: ۱۳۸۵

محل انتشار: هفتمین سمینار ملی مهندسی سطح و عملیات حرارتی

تعداد صفحات: ۸

نویسنده(ها):

مژگان چاوشی – دانشکده فیزیک، دانشگاه صنعتی شریف
نیما تقوی نیا – دانشکده فیزیک، دانشگاه صنعتی شریف

چکیده:

در این پروژه نانوذرات TiO2 روی زیر لایه استیل لایه نشانی شده و خاصیت فوتوکاتالیستی آن مورد بررسی قرار گرفت. از محلول (W/V)1% نانو پودر TiO2 با سایز ذرات ۱۸ نانومتر و سطح مؤثر ۵۰m2/grدر حلال های استون، متانول و استیل استون استفاده شده است . ولتاژ اعمالی ۱۰ ولت و زمان لایه نشانی ۲ دقیقه و زیر لایه استیل می باشد. اکسید تیتانیوم در استیل استون بهتر از متانول و استون حل می شود، هر سه محلول تحت شرایط فوق قرار گرفتند ولی تنها در استیل استون لایه نشانی اتفاق افتاد. در مرحله بعد به هر سه محلول مقدار ۰/۰۴ گرم ید اضافه کرده و مجدداًً در شرایط اولیه یکسان لایه نشانی شدند . این بار در استیل استون و استون لایه نشانی صورت گرفت ولی در متانول لایه ایجاد نگردید و لایه نشانی در استیل استون و ید بسیار یکنواخت تر از محلول استنون و ید حاصل شد . با استفاده از نمودار جریان -زمان در حین لایه نشانی روند لایه نشانی کنترل می شد. نمونه ها بعد از لایه نشانی در دمای ۴۰۰ درجه حرارت دهی شدند، طیف XPS بعد از حرارت دهی عدم نفوذ مواد زیرلایه به سطح لایه را نشان می دهد. نمونهها جهت تست فوتوکاتالیستی در راکتور گاز آمونیا تحت نور UV قرار گرفتند که غلظت گاز آمونیا در مدت ۸۰ دقیقه به ۳۰ % مقدار اولیه رسیده است . همچنین بررسی های SEM  روی نمونه ها صورت گرفت که تخلخل لایه را نشان می دهد.