سال انتشار: ۱۳۸۶

محل انتشار: دومین همایش دانشجویی فناوری نانو

تعداد صفحات: ۵

نویسنده(ها):

محمد عبدالاحد – دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف
امید اخوان – دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف
علیرضا مشفق – دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف

چکیده:

در این تحقیق ابتدا نانو لیتگرافی برروی لایه ماسک فوتورزیست که روی بستر LiTaO3 لایه نشانی شده با ایجاد حفره هایی با پارامترهای مختلف بررسی مینماییم . سپس روش لیتوگرافی پروبی روبشی مکانیکی شیمیایی (mechano- chemical scanning probe lithography) بررسیAFM الگوهای پیچیده تری بوسیله لیتوگرافی نیروی مستقیم Al/SiO2/Si میشود که در آن بر روی لایه ماسک لایه نشانی شده بر روی چند لایه ایجاد میشود . سپس ویفر را بوسیله محلول اسید فسفریک اچ میگردد و نانو ساختارهای آلومنیوم ایجاد میگردد . این تشکیل نانو ساختارها گام مهمی به
سمت یاخت قطعات نانومتری است .