سال انتشار: ۱۳۸۷

محل انتشار: شانزدهمین همایش انجمن بلور شناسی و کانی شناسی ایران

تعداد صفحات: ۵

نویسنده(ها):

فاطمه زارع نژاد – آزمایشگاه تحقیقاتی اسپری پایرولیزز
سید محمد روضاتی – دانشکده علوم پایه، دانشگاه گیلان
سیامک گلشاهی – گروه فیزیک ، دانشگاه گیلان ، رشت

چکیده:

فیلمهای نازک اکسید روی غیر آلائیده وآلایش یافته با ایندیم با استفاده از تکنیک افشانه پایرولیزز تهیه می شوند. در این مقاله اثر ترکیب تدریجی کاتیونهای ایندیم در ساختار اکسید روی در خواص اپتیکی ، الکتریکی و ساختاری فیلمهای اکسید روی آلائیده با ایندیم مطالعه م شود . جهت رشد غالب فیلمهای اکسید روی راستای( ۰۰۲ ) می باشد که با ورود ایندیم به شبکه بلوری راستای ( ۰۰۲ ) حذف گشته و سه راستای ۱۰۰ ۱۰۱ ۱۱۰ فاز غالب ۱۰۰ استفاده از پراش اشعه X مشاهده شده است . بررسی ساختاری لایه ها با درصدهای مختلف آلایش با استفاده از پراش پرتو X حاوی دو نتیجه می باشد: اول آنکه در درصد آلائیدگی کمتر فاز غالب در جهت گیری صفحات بلوری تغییر نکرده اما شدت آن کاهش یافته است. ذکر این نکته ضروری به نظر می رسد که در آلایش ۱% علی رغم عدم تغییر آنچنانی د راستای رشد غالب ۰۰۲ خواص الکتریکی بهبود قابل ملاحضه ای یافته است. دوم آنکه در صورتیکه به دنبال یافتن راستاهای جدید بلوری باشیم می باید توجه خود را به لایه های تهیه شده در درصد آلائیدگی بیشتر معطوف نماییم . در درصد آلائیدگی بالاتر فاز غالب از ( ۰۰۲ ) به ۱۱۰ ) تغییر می کند . بررسی خواص الکتریکی و اپتیکی ایده آل ترین لایه های اکسید روی آلائیده با ایندیم به ترتیب مقاومت سطحی Ώ و طیف عبوری در ناحیه مرئی ۷۷ % را نشان می دهد که نشانگر کاربرد بالای این لایه ها در ساخت قطعات اپتوالکترونیکی است.