سال انتشار: ۱۳۸۶

محل انتشار: دومین همایش دانشجویی فناوری نانو

تعداد صفحات: ۱۲

نویسنده(ها):

مجید پاکیزه – تهران، دانشگاه تربیت مدرس، دانشکده فنی و مهندسی ، گروه مهندسی شیمی
محمدرضا امیدخواه – تهران، دانشگاه تربیت مدرس، دانشکده فنی و مهندسی ، گروه مهندسی شیمی

چکیده:

در این مطالعه، سیلیکای پلیمری متخلخل با ساختار آمورف که در ساخت غشاء های نانوپروس و کاتالیست کاربرد دارد، با استفاده از پلیمریزاسیون تتراتیل ارتوسیلیکات (TEOS) ر روش سل – ژل سنتز گردید. شرایط اسیدی منجر به تولد ذراتکوچکتر شده اما در شرایط بازی اندازه آنها افزایش می یابد. اثر ماده فعال سطحی از نوع کاتیونی به نام ستیل پیردینیوم بروماید (CPB) به عنوان عامل هدایت کننده ساختای سیلیکا با نقش جلوگیری کنندگی از تجمع نامطلوب ذرات سیلیکا و در نتیجه افزایش سطح ویژه سیلیکا باآزمایش جذب فیزیکی نیتروژن مطالعه گردید.
نتایج روش BETنشان داد که ماده فعال سطحی در شرایط اسیدی باعث افزایش قابل توجهی سطح مساحت سیلیکا در حدود ۵ تا ۱۰ برابر نمونه بدون ماده فعال سطحی می شود . در شرایطبازی به دلیل تشکیل ذرات بزرگتر، سطح مساحت سیلیکا درحدود یک پنجم نمونه اسیدی به دست آمد. نتایج آزمایش Si-NMR 29 نشان داد که زمان رشد تا ۳ هفته بر روی میزان شاخه دار شدن ذرات سیلیکا به دست آمده در شرایط اسیدی، تاثیر دارد. فرایند کلسیناسیون که در طی آن گروه های آلی و مواد فعال سطحی CPB از داخل ذرات سیلیکا سوخته و خارج می گردد، با استفاده از تکنیکهای DTA , TGA مطالعه گردید.