سال انتشار: ۱۳۸۷

محل انتشار: پانزدهمین کنفرانس اپتیک و فتونیک ایران

تعداد صفحات: ۴

نویسنده(ها):

شیدا باقر زاده – آزمایشگاه تحقیقاتی لایه های نازک ، گروه مهندسی برق و کامپیوتر ، دانشک
نگین معنوی زاده – آزمایشگاه تحقیقاتی لایه های نازک ، گروه مهندسی برق و کامپیوتر ، دانشک
ابراهیم اصل سلیمانی – آزمایشگاه تحقیقاتی لایه های نازک ، گروه مهندسی برق و کامپیوتر ، دانشک
محمد هادی ملکی – پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای ، پژوهشکده لیزر و اپتیک

چکیده:

هدف از این پژوهش بررسی ویژگی های فیزیکی و ساختاری لایه های نازک ZnO بر روی زیر لایه های مختلف می باشد به این منظور لایه های اکسید روی در شرایط مشابه بر روی زیر لایه های شیشه . منوکریستال سیلیکون (۱۰۰) نوع O مولتی کریستال سیلیکون لایه نشانی و سپس در دمای C 400 در کوره خلاء تحت عملیات گرمادهی قرار گرفته اند ویژگی های اپتیکی . ساختار بلوری و ساختار سطحی این لایه ها با کمک آنالیز های طیف UV/VIS/IR و XRD و SEM مورد بررسی قرار گرفته است