سال انتشار: ۱۳۸۷

محل انتشار: نهمین سمینار ملی مهندسی سطح و عملیات حرارتی

تعداد صفحات: ۸

نویسنده(ها):

داود رئوفی – استادیار دانشگاه بوعلی سینا
حمید رضا فلاح – دانشیار دانشگاه اصفهان

چکیده:

در این تحقیق با استفاده از روش سل ژل لایه های نازک Zno بروی زیرلایه های شیشه ای رسوب گذاری شده اند.این لایه های نازک znO که دارای ساختار ریز با جهت گیری خوش-تعریف هستند از طریق لایه نشانی چرخشیspin دیهیدرات استا روی منو اتانول آمین آب دی اکسیژنه و الکل ایزوپروپانول بدست آمدند.لایه ها در دمای اولیه ۲۵۰ درجه به مدت ۱۰ دقیقه تهیه و سپس در دماهای ۳۰۰و۴۰۰و۵۰۰ به مدت یک ساعت بازپخت شدند.تاثیر دمای بازپخت بر ساختار و مورفولوژی سطح لایه ها از طریق میکروسکوپ روبشی الکترونی و پراش سنج اشعه ایکس بررسی شدند.لایه های بازپخت نشده از ذرات بی شکل زیرمیکرونی استات اکسید روی تشکیل شده اند که پس از عملیات حرارت دهی به لایه های ZnOبا جهت گیری خوش-تعریفی تبدیل میشوند.نتایج پراش سنجی اشعه ایکس ساختار چند کریستالی ای با جهت گیری ترجیهی ۰۰۲ را نشان میدهد.نتایج میکروسکوپ روبشی الکترونی نیز نشان میدهد لایه های شیشهZnOاز ذرات ریز دانه ای با قطر میانگین ۳۳nm تشکیل شده اند. و با افزایش دمای بازپخت دانه بندی مناسبتری حاصل میشود.