سال انتشار: ۱۳۸۶

محل انتشار: سومین کنفرانس ملی خلاء

تعداد صفحات: ۴

نویسنده(ها):

سید محسن حسینی گلگو – گروه الکترونیک دانشگاه صنعتی خواجه نصیرالدین طوسی
احسان شکوهمند – گروه الکترونیک دانشگاه صنعتی خواجه نصیرالدین طوسی
رضا افضل زاده – گروه فیزیک دانشگاه صنعتی خواج هنصیرالدین طوسی
فرامرز حسین بابایی – گروه الکترونیک دانشگاه صنعتی خواجه نصیرالدین طوسی

چکیده:

لایه های اکسید قلع و اکسید روی به روش تبخیر با باریکه الکترونی در خلأ، بر روی زیرپایه های سیلیکا نشانده شدند. فشار محفظه ۱۰ به توان ۵- Torr بود و زیرپایه ها در دمای اتاق قرار داشتند. لایه های اکسید قلع حاصل شفاف و زرد رنگ بوده چسبندگی خوبی به زیرپایه داشتند. مطالعات بعدی نشان داد که این لایه ها ساختاری آمورف دارند. تبلور لایه های اکسید قلع در دو محیط اکسیژن و ازت در دماهای متفاوت صورت گرفت. در همه موارد فرآیند تبلور در محیط حاوی اکسیژن بیشتر، سریعتر بود. این مورد بر اساس کمبود اکسیژن از مقدار استوکیومتریک آن در ترکیب لایه توضیح داده شد. تبخیر اکسید روی به روش مشابه، لایه های سیاه رنگی متشکل از ذرات روی را نتیجه داد که نتیجه ضعیفی با زیرپایه داشتند. از این رو کنترل فشار اکسیژن در محفظه خلأ طی لایه نشانی ضروری بود. سعی و خطا در این خصوص به علت عدم کنترل دقیق فشار اکسیژن نتیجه مثبتی نداشت.