سال انتشار: ۱۳۸۲

محل انتشار: هشتمین کنگره ملی مهندسی شیمی ایران

تعداد صفحات: ۱۰

نویسنده(ها):

مجید پاکیزه – دانشجوی دوره دکترای مهندسی شیمی دانشگاه تربیت مدرس
عبدالصمد زرین قلم – دانشیار بخش مهندسی شیمی دانشگاه تربیت مدرس

چکیده:

در این مطالعه ، مکانیسم تشکیل فیلم حساس سولفی د سرب مورد بررسی و تحقیق قرار گرفته و با توجه به همین مکانیسم ، نوع راکتور و رفتار حرارتی آن مشخص شده است . نوع واکنشگرها و کاتالیست و غلظت ها و مقادیر لازم از محلول ها ، با توجه به حجم راکتور و استوکیومتری واکنش نشست تعیین می شود . معمو ً لا در نشست شیمیایی س ولفید سرب از هیدروکسیدسدیم بعنوان
تأمین کننده یون هیدروکسی که به تشکیل کریستال سولفید سرب کمک می کند ،استفاده شده است ولی در این مطالعه بجای آن ، استفاده از هیدرازین به دلیل نداشتن آلودگی یونی سدیم و خواص بهتر فیلم تهیه شده سفارش شده است[ ۵]. در تهیه فیلم حساس سولفید سرب علاوه بر میزان درصد تبدیل واکنشگرها ، کیفیت فیلم حساس نیز از اهمیت بالاتری برخوردار بوده و تغییرات پروفایل حرارتی اعمال شده به راکتور باید با توجه به مکانیسم تشکیل کمپل کس ها باشد . با توجه به فرآیند اختلاط محلول های واکنش وحرارت اعمالی به راکتور، چهار نوع فیلم سولفید سرب بدست آمده از چهار مسیرD, C, B, Aاز نظر پارامترهای اپتوالکترونیکی مورد بررسی قرار گرفت