مقاله ويژگي هاي نانوساختار نقره/اکسيد سيليکون که چکیده‌ی آن در زیر آورده شده است، در ۱۳۸۸ در علوم و مهندسي سطح از صفحه ۴۱ تا ۴۷ منتشر شده است.
نام: ويژگي هاي نانوساختار نقره/اکسيد سيليکون
این مقاله دارای ۷ صفحه می‌باشد، که برای تهیه‌ی آن می‌توانید بر روی گزینه‌ی خرید مقاله کلیک کنید.
کلمات مرتبط / کلیدی:
مقاله فيلم نازک
مقاله اکسيد سيليکون
مقاله فيلم نقره
مقاله تابش سينکروتروني

نویسنده(ها):
جناب آقای / سرکار خانم: بهاري علي
جناب آقای / سرکار خانم: فدايي سيده مژده

چکیده و خلاصه‌ای از مقاله:
ترانزيستورهاي اثر ميداني يکي از مهم ترين قسمت هاي مدارهاي مجتمع مي باشند. در ساختار اين نوع ترانزيستورها، الکترود فلزي بر روي لايه اي از اکسيد سيليکون قرار گرفته است و زير لايه نيز از جنس سيليکون اختيار شده است. ما عنصر نقره را به عنوان الکترود اختيار نموديم و با استفاده از طيف هاي گرفته شده از تکنيک تابش هاي سينکروتروني که تکنيک حساس به سطح است تلاش کرديم تا ببينيم که آيا مي توان ازنانوساختار نقره در تماس با فيلم اکسيد بدين منظور استفاده کرد يا نه. علاوه بر آن تاثير ميدان هاي الکتريکي عبوري از آن را نيز بررسي کرديم. تغييرات موضعي در Ag/SiO2/Si نشان مي دهد که فيلم تشکيل دهنده بر زير لايه ي سيليکوني تمام سطح آن را پوشش مي دهد به طوري که شاهد فيلم يکنواختي هستيم و هم چنين ميدان ضعيف الکتريکي در فيلم هاي نازک تراکسيد (کمتر از (۲nm نسبت به فيلم ضخيم تر از آن به دست آمده است.