سال انتشار: ۱۳۸۴

محل انتشار: کنفرانس فیزیک ایران ۱۳۸۴

تعداد صفحات: ۳

نویسنده(ها):

کاظم جمشیدی قلعه – گروه فیزیک، دانشکده علوم پایه، دانشگاه تربیت معلم آذربایجان
نسترن منصور – گروه فیزیک، دانشکده علوم، دانشگاه شهید بهشتی تهران

چکیده:

پاسخ غ یرخطی ش یشه های س یلیکات آلاییـ ده بـا عناصـر قل یـ ایی : ) Na2O-CaO-SiO2 سـد یم سـ یلیکات ) ، ) K2O-CaO-SiO2 پتاسـ یم سـ یلیکات ) و ) Cs2O-CaO-SiO2 سـز یم
سیلیکات ) تحت تابش با تپها ی لیزری ۲۰۰ فمتوثان یه و طول موج ۸۰۰ نانومتر بررس ی شده است . نتایج تجرب ی نشان م ی دهند که برا ی سز یم سـ یلیکات رفتـار غ یرخطـ ی از انرژی تپ بالاتر از ۳۵ م یکرو – ژول، برا ی پتاس یم س یلیکات ۶۰ م یکرو – ژول و برا ی سد یم س یلیکات ۷۰ م یکرو – ژول ظاهر م ی شود . برای توج یه رفتار غ یرخطی مشاهده شده مدل جذب -۳ فوتون ی با در نظر گرفتن جذب الکترونهای آزاد تولید شده ارائه شده است . ضرایب جذب -۳ فوتونی و سطح مقطع جـذب الکترونهـا ی آزاد تولیـ ده شـده برای هر سه نمونه مورد آزمایش گزارش شده است .