سال انتشار: ۱۳۸۶

محل انتشار: سومین کنفرانس ملی خلاء

تعداد صفحات: ۴

نویسنده(ها):

ح.علی مددی – دانشگاه صنعتی خواجه نصیرالدین طوسی گروه فیزیک
ع بنانج – سازمان انرژی اتمی پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای، پژوهشکده لیزر و اپتیک
م حمیدی – دانشگاه شهید بهشتی پژوهشکده لیزر و پلاسما
م نوربخش – دانشگاه صنعتی خواجه نصیرالدین طوسی گروه فیزیک

چکیده:

در این گزارش، به دلیل بالاتر بودن خواص اپتیکی غیر خطی فلزات نسبت به مواد دیگر و نیز پائین بودن ضریب عبور لایه های فلزی با ضخامت های بیشتر از عمق نفوذ، رفتار و چگونگی تولید کریستالهای فوتونیکی یک بعدی فلز -دی الکتریک با ضریب عبور بالا، مورد بررسی قرار گرفته است. در این نوع از موادِ ترکیبی با خواص اپتیکی غیر خطی بالا، ضریب عبور از سازه Glass /(Cu −Mgf 2)3 / Air در مقایسه با تک لایه ای از مس با ضخامتی معادل با مجموع لایه های مس در سازه بلورهای فوتونیکی، بیش از ۵۰ % افزایش پیدا می کند که تطابق خوبی با نتایج حاصل از محاسبات تئوری بر اساس روش ماتریس انتقالدارد.